DLC類金剛石涂層的制備辦法

DLC類金剛石涂層的制備辦法有化學氣相堆積(CVD)和物理氣相堆積(PVD)。

1、化學氣相堆積法

化學氣相堆積是指在高溫或許等離子場中使含碳化合物分化或許電離，然后在基體上產(chǎn)生化學反應(yīng)構(gòu)成類金剛石涂層。一般的CVD技能存在堆積溫度較高，涂層的內(nèi)應(yīng)力大等缺陷，逐步被等離子增強化學氣相堆積(PE-CVD)、微波-射頻(MW-KF)、直流輝光放電法(DG)、射頻輝光放電法(RFG)等取代。

2、物理氣相堆積法

物理氣相堆積制備DLC薄膜，通過高溫蒸騰，氣體離子濺射石墨靶材，使碳以離子或原子的方式堆積于基體上成膜，這種薄膜外表粗糙，結(jié)合力差，工業(yè)應(yīng)用效果不明顯。離子束堆積(IBD)、磁控濺射、陰極電弧技能和脈沖激光堆積(PLD)等，均能夠制備外表細密潤滑、內(nèi)應(yīng)力小、附著力強、摩擦系數(shù)較小的類金剛石涂層