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進入21世紀以來,隨著國家經(jīng)濟的快速發(fā)展,化石燃料消耗帶來的環(huán)境污染問題也日益突出。當前,隨著“國五”標準的不斷推進以及“國六”標準的即將到來,在汽車制造企業(yè)自身努力創(chuàng)新以及燃油成本不斷提高的大環(huán)境下,追求汽車發(fā)動機的減排增效已經(jīng)是大勢所趨。
PVD(物理Q相沉積)作為一種逐漸被人們普遍認識和認可的表面處理方法,其給發(fā)動機整體性能帶來的改善逐漸顯現(xiàn)其優(yōu)勢。PVD自身具有的綠色環(huán)保無污染排放、工藝溫度低、涂層硬度高、摩擦系數(shù)低、結(jié)合力強并且化學穩(wěn)定性好等特點,使其具備應用于汽車發(fā)動機零部件的基本條件。
DLC(類金剛石)涂層作為一種較為常見的PVD涂層,和金剛石幾乎擁有一樣的特性。由于其具有高硬度和高彈性模量、低摩擦因數(shù)、耐磨損以及良好的真空摩擦學特性,很適合于作為耐磨涂層,因而通過氣相沉積工藝獲得的DLC涂層在眾多有耐磨性以及硬度要求的零件上得到普遍應用。
DLC工藝溫度通常在200攝氏度左右,甚至更低,能夠處理大多數(shù)的汽車零件;DLC涂層細膩光滑,自潤滑性好,摩擦系數(shù)通常在0.1以下;硬度高,通常在Hv2200以上;尤其適合涂覆在汽車零件表面,承受頻繁持續(xù)的G強度摩擦磨損,起到提高零件使用性能、延長使用壽命的作用;另外,DLCZ高可耐受350攝氏度,且耐腐蝕性好、化學穩(wěn)定性高、結(jié)構(gòu)致密,能夠勝任發(fā)動機的內(nèi)部溫度和工作環(huán)境。
我們知道,發(fā)動機中的活塞環(huán)安裝在活塞側(cè)壁的凹槽內(nèi),環(huán)外圓面緊貼在氣缸內(nèi)壁。隨著活塞在氣缸內(nèi)上下往復運動,環(huán)面不斷地刮擦氣缸內(nèi)壁,產(chǎn)生較大的摩擦功損耗,工況比較惡劣?;钊h(huán)在發(fā)動機中一般起到導向、導熱、密封等作用,因此,圍繞其開展的表面處理技術(shù)直接影響到發(fā)動機整機的能耗和使用壽命。近些年,國內(nèi)外很多科研機構(gòu)、制造企業(yè)對活塞環(huán)加工工藝和表面處理的探索一直沒有停止。
傳統(tǒng)的主要表面處理技術(shù)有滲氮處理、滲碳處理、磷化處理等,目前比較成熟的PVD涂層是多指CrN涂層,在市場上較為普遍。近年來出現(xiàn)的含氫DLC涂層(以下簡稱DLC)和無氫DLC涂層(以下簡稱TaC)作為一種新的涂層材料和技術(shù),因為具有更加優(yōu)異的性能得到業(yè)界的普遍重視。與CrN相比,DLC可以有效減少摩擦,進一步降低摩擦功損耗,重要的一點是更加不易拉缸。
在以非燃油為燃料的新能源汽車發(fā)動機(如天然氣和目前在努力推廣的甲醇燃料的發(fā)動機)中,DLC涂層的活塞環(huán)可以在無潤滑油的干態(tài)摩擦條件下起到良好的潤滑和耐磨減磨的作用,這也是目前解決這類活塞環(huán)壽命和節(jié)能問題的惟一手段。
但是,需要指出的是,傳統(tǒng)的DLC涂層通常不到5微米,很容易被刮擦掉,遠遠達不到發(fā)動機的實際使用壽命。無論是在什么樣的零件上使用,一般來說,在滿足零件尺寸要求的前提下,涂層的厚度,尤其是DLC涂層的厚度往往是越厚越好,這樣零件的耐磨性會相應提高。然而,一旦涂層的厚度增加,尤其是DLC層的厚度增加,就會導其內(nèi)應力增大,影響涂層和基材結(jié)合力,導致涂層與基材剝離,這就對涂層的使用壽命和效率產(chǎn)生影響。
因此,厚度及其表現(xiàn)出的耐磨性一直是應用上的一個瓶頸。而TaC作為一種無氫DLC雖然有報導稱能做到20微米,但是現(xiàn)有條件下,其生產(chǎn)成本以及設備的維護保養(yǎng)等方面恐怕很難滿足真正的大規(guī)模量產(chǎn)需要,這時候就急需真正適合活塞環(huán)的DLC工藝。
DLC涂層目前可以通過很多種技術(shù)獲得,但市面上常用的方法分別是磁控濺射、離子束和電弧技術(shù)。實現(xiàn)這三種技術(shù)手段依靠的硬件——等離子體源(磁控濺射靶座、離子束源和電弧源),其結(jié)構(gòu)開發(fā)設計和裝配甚至后續(xù)的檢驗和維護保養(yǎng)等,都是由公司自行完成。
應用于活塞環(huán)上的DLC主要采用磁控濺射技術(shù)和離子束技術(shù)多層復合沉積而成。等離子體源在相應的電源和反應氣體的共同作用下,將原材料變成大量微觀帶電的等離子體。這些提供涂層主要成分的等離子體隨著鍍膜設備內(nèi)產(chǎn)生的電磁場的分布,有規(guī)律地做定向運動,Z終在需要沉積的工件位置,逐漸形成宏觀可見的、具有一定厚度的涂層。
其中,磁控濺射技術(shù)沉積速率高,穩(wěn)定性高,均勻性好,結(jié)合力強,需要沉積的材料只要制作成相應的塊狀靶材即可安裝在靶座上;在涂層沉積過程中,該技術(shù)負責沉積與基材接觸的底層以及介于底層和Z外層的功能層之間的過渡層。離子束技術(shù)主要用來沉積功能層,含碳的反應氣體在離子束源產(chǎn)生的強電場作用下被電離成等離子體并沉積到上述過渡層上。
因為是氣體作為碳元素的來源,所以沉積出的涂層結(jié)構(gòu)更為致密,表面更為光滑和黑亮。過渡層的存在能夠有效地提高納米硬度范圍,從而能夠?qū)崿F(xiàn)功能層厚度的增加,并且可以有效緩沖后功能層帶來的巨大應力,提高復合薄膜與基材的結(jié)合力。同時,由于過渡層的表面微觀結(jié)構(gòu)良好,不會破壞DLC自身的粗糙度,從而保證復合涂層具有較低的摩擦系數(shù)。
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